产品描述
SI－HP3000 型系列 HiPSTER 高能脉冲溅射电源， 是一款专为 HiPIMS 磁控溅射镀膜工艺以及纳米颗粒生成工艺而开发的高压脉冲等离子体电源。 本电源采用 IGBT 斩波技术开发设计， ARM 单片机做整机控制,带触屏的液晶显示器作为人机交互部件的新型电源产品。 微电脑控制技术的应用使系统的保护更加完善， 输出功率更加稳定。全新设计的散热系统， 使得 IGBT 的工作温度大大降低、 工作寿命更长更稳定，并可长时间连续工作。由于采用了触屏和 TFT 彩色液晶显示器，再辅以适当的软件，所以控制更灵活，人机交互界面更友好，使用更方便。
HP3000 电源用于激励各种等离子体装置，例如： PVD 设备、 磁控溅射设备
本电源具有如下功能：
● 恒定脉冲电流、恒定放电量控制；
● 高精度控制，可达 0.5%+1 字；
● 单脉冲高速 ARC 放电检测与控制， 稳定溅射过程。
● 数据显示采用带触摸屏的液晶显示器，显示控制直观方便精度高。
● 多种多重智能保护及故障检测功能，运行可靠性高； 维护方便。
● RS232 及 RS485 通讯接口,可实现全功能遥控与遥测（选装）；
● 全新的散热系统设计， 本电源在不堵塞散热孔的前提下可连续工作。
● 体积小重量轻。最大外形尺寸 483 x 89 x 300 全机仅 3.2kg；
产品简介
HiPIMS 磁控溅射是一种采用高压脉冲电源的高功率密度等离体磁控溅射系统，此种溅射工艺，能够极大的增加等离子体密度和强度，从而使溅射速率更高、 膜层更致密、 附着度更强；由于溅射能级更高所以能够溅射普通电源不能溅射的高溅射能级材料。 主要应用工艺如下：
● 坚硬膜层： 通过反应溅射形成更光滑、致密的膜层，达到增加表面硬度的目的。使镀膜后的物件更加耐磨、耐腐蚀、 降低摩擦系数。
● 光学膜层： 由于具有更高的溅射动能，所以膜层表面更光滑、更致密，所以能够更好的改善光学性能。
● 扩散膜层： 采用 HiPIMS 工艺能够形成更高的膜层密度，确保有效的屏蔽效果。
● 电气膜层： 由于膜层致密度高所以可以改善膜层导电性，以至可以减小膜层厚度的降低热损耗，同时也可以提高绝缘性能。
● 3D 膜层： 更高的溅射动能，能够在复杂形状表面形成均匀的膜层。
技术指标
供电电源要求： AC220V（±10%） / 50Hz；
运行模式： 限制峰值电流、限制放电电量控制；
输出频率设定范围： 50~2000Hz（±0.1%）；
输出脉冲宽度范围： 3.5~1000.0uS（±0.1%）；
最大允许输出功率： 3000W。
充电电源功率： 1000、2000、3000W （订货时可选择）；
充电电源最高电压： 1000V
脉冲峰值电流检测范围： 5~300A；
脉冲电流上升率检测范围： 1~60A/uS
脉冲放电量检测范围： 5~5000uC；
功率控制精度： 0.5%+1 字；
显示器： 触摸屏 + 4.3 彩色液晶显示器；
计算机接口： RS-232/485 接口/Modbus 协议；
最大外形尺寸： 主机 483 x 89 x 300mm
重量： 主机 3.2kg
使用温度： 1 0-40℃ (电源/显示器)
湿度范围： 5%-85%RH.， 不结露
HP3000 高能脉冲电源功能框图
斩波输出波形
电源运行控制界面
PC 软件控制界面
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