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PDC100普通机

产品特点 本机采用我公司专有的RF等离子体发生技术、计算机控制技术、高超的软件编程技术及精湛的设计、加工与装调水平开发与制造。本公司的小型等离子清洗器是一种小型化、非破坏性的超清洗设备。该款小型等离子清洗器采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。

所属分类:

等离子清洗机


关键词: PDC100普通机

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产品描述

产品特点
  本机采用我公司专有的RF等离子体发生技术、计算机控制技术、高超的软件编程技术及精湛的设计、加工与装调水平开发与制造。本公司的小型等离子清洗器是一种小型化、非破坏性的超清洗设备。该款小型等离子清洗器采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
  这款小型等离子清洗机外接一台真空泵,工作时小型等离子清洗器的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。这款小型等离子清洗机,短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被小型等离子清洗机的真空泵抽走,这款小型等离子清洗机的清洗程度达到分子级。
  本款小型等离子清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:小型等离子清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。该款小型等离子清洗机对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中小型等离子清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。我们的小型等离子清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
  等离子清洗机的应用范围:
  * 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
  * 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
  * 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
  * 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
  * 清洗半导体元件、印刷线路板。
  * 清洗生物芯片、微流控芯片。
  * 清洗沉积凝胶的基片。
  * 高分子材料表面修饰。
  * 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
  * 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。


产品规格
1 清洗腔体

项目 普通精度测量板 说明
腔体尺寸 Ø190X98mm  
石英管尺寸 Ø180X55mm(壁厚7mm)  
内腔尺寸 Ø165X55mm  
清洗电极尺寸 Ø120mm(水冷)  
样品台有效尺寸 Ø140mm  
Ø100mm(加热)  
样品与电极距离 15~50mm可调  
抽气管尺寸 Ø12mm  
极限真空度 0.1Pa  
工作真空度 60~500 Pa  
真空泵规格 2L、AC220V  

 

2 气路系统
气路数量: 2路
流量控制器数量: 1、2(选装)
流量控制器量程: 50SCCM(选装)
流量显示仪规格: 2通道
气路接口规格: Ø6mm
放气管路接口规格: Ø6mm

3 RF电源规格
输出功率: 100W(30\60\100W三档可调)
调谐方式: 自动调谐/跟踪、手动调谐

4 样品台加热器规格
加热样品台尺寸: Ø100mm(选装)
加热样品温度: 室温~500℃±1℃

5 整机参数
供电电压: AC220V/10A
消耗功率: <500W(包括真空泵)
整机尺寸: 245x235x460mm(不含真空泵)
主机重量: 20kg(不含真空泵)
冷却水压力: 0.2~0.4Kpa
存储温度: -20~50℃
使用温度: 5~35℃
环境温度: <80%(相对温度)不结露
海拔高度: 0~2000m

 

 

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